蘇黎世SwissLitho公司與澳大利亞的EV Group公司共同開(kāi)發(fā)出一種能夠制造納米級(jí)光學(xué)組件的新型納米壓印光刻(NIL)技術(shù)。
此次合作建立在先前由IBM Research研發(fā)并獲得歐盟1760萬(wàn)歐元資助的項(xiàng)目的基礎(chǔ)之上,將EV Group的“Hercules”系統(tǒng)與SwissLitho公司的“NanoFrazor”熱掃描探針進(jìn)行整合。
該種方法能夠大量復(fù)制高精度的三維結(jié)構(gòu),公司的最初研究方向?yàn)閼?yīng)用于數(shù)據(jù)通信、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(AR)、虛擬現(xiàn)實(shí)(VR)等應(yīng)用中的衍射光學(xué)元件(DOF)以及其他光學(xué)組件。
“印章”全息圖
試驗(yàn)生產(chǎn)線(xiàn)
EV Group在奧地利建立了“納米壓印光刻技術(shù)中心”,并邀請(qǐng)了光子學(xué)領(lǐng)域的專(zhuān)家們對(duì)可行性研究以及小規(guī)模生產(chǎn)進(jìn)行了技術(shù)評(píng)估。
EV Group公司的技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner表示:“如今,我們已合作研究出納米光刻技術(shù)完整的解決方案,該方法可用于三維結(jié)構(gòu)制造以及其他光子學(xué)應(yīng)用,并為雙方公司擴(kuò)大了客戶(hù)群以及市場(chǎng)覆蓋面?!?/span>
該技術(shù)最初由著名的蘇黎世IBM Research實(shí)驗(yàn)室研究,SwissLitho公司的“NanoFrazor”熱掃描探針也在此研發(fā)。無(wú)掩膜式直寫(xiě)光刻技術(shù)需要在圖案形成之前將熱敏抗蝕劑旋轉(zhuǎn)涂抹至樣品表面,后使用極其尖銳的加熱尖端進(jìn)行局部分解以及抗蝕劑蒸發(fā),同時(shí)檢查已寫(xiě)入的納米結(jié)構(gòu)。
SwissLitho解釋稱(chēng):“由此產(chǎn)生的任意光致抗蝕圖可以通過(guò)剝離、蝕刻、電鍍、成型或其他方法轉(zhuǎn)移到任何其他材料上,最終形成納米壓印的‘主印章’。”
EV Group的“Hercules”紫外納米壓印光刻系統(tǒng)能夠大量復(fù)制納米壓印圖案的三維結(jié)構(gòu),為直徑為200mm的晶片提供高達(dá)40wph的產(chǎn)能。
單納米精度
SwissLitho的首席執(zhí)行官Felix Holzner表示:“NanoFrazor為昂貴的電子束光刻系統(tǒng)提供高性能且經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的替代方案和擴(kuò)展方法?!?/span>
“該技術(shù)允許在單步執(zhí)行中制造具有多種‘級(jí)別’的主圖案。特別是對(duì)于單納米精度的三維結(jié)構(gòu)而言,其生產(chǎn)方法比起傳統(tǒng)電子束光刻或灰度光刻方法更為簡(jiǎn)單并具有更高的保真度。”
SwissLitho、IBM Research以及EV Group共同參加了由歐盟第七框架協(xié)議(FP7)支持的“超越CMOS的單納米制造”(SNM)項(xiàng)目。
該項(xiàng)目持續(xù)時(shí)間為2013年1月至2017年3月,由德國(guó)伊爾梅瑙工業(yè)大學(xué)的首席研究員Ivo Rangelow領(lǐng)導(dǎo)。其他合作伙伴包括英國(guó)牛津儀器公司、比利時(shí)半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)中心以及倫敦帝國(guó)理工學(xué)院等。
項(xiàng)目主要目標(biāo)是將最先進(jìn)的光刻技術(shù)推向單一納米尺度,以產(chǎn)生超低功耗電子、量子器件以及控制單個(gè)電子的能力。
SwissLitho公司由聯(lián)合創(chuàng)始人Holzner與公司首席技術(shù)官Philip Paul于2012年共同創(chuàng)立,他們?cè)?jīng)于IBM Research共同領(lǐng)導(dǎo)了NanoFrazor技術(shù)的研究。此后,SwissLitho建立了全球銷(xiāo)售網(wǎng)絡(luò),曾向美國(guó)空軍研究實(shí)驗(yàn)室、澳大利亞墨爾本納米制造中心以及荷蘭應(yīng)用科學(xué)研究組織(TNO Delft)銷(xiāo)售產(chǎn)品。
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